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我國科學家首次獲得納米級光雕刻三維結構

  據央視新聞,14日夜,國際頂級學術期刊《自然》發(fā)表了我國科學家在下一代光電芯片制造領域的重大突破。南京大學張勇、肖敏、祝世寧領銜的科研團隊,發(fā)明了一種新型“非互易飛秒激光極化鐵電疇”技術,將飛秒脈沖激光聚焦于材料“鈮酸鋰”的晶體內部,通過控制激光移動的方向,在晶體內部形成有效電場,實現三維結構的直寫和擦除。這一新技術,突破了傳統(tǒng)飛秒激光的光衍射極限,把光雕刻鈮酸鋰三維結構的尺寸,從傳統(tǒng)的1微米量級(相當于頭發(fā)絲的五十分之一),首次縮小到納米級,達到30納米,大大提高了加工精度。

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