ASML首席技術官Martin van den Brink日前受訪時表示，目前公司正有序推行其路線圖，在EUV之后是High-NA EUV技術。ASML正在準備向客戶交付首臺High-NA EUV光刻機，大概會在明年某個時間點完成。至于High-NA EUV技術之后的技術方案，Martin表示，ASML正在研究降低波長，但其懷疑Hyper-NA將是最后一個NA，可能是接下來半導體光刻技術發(fā)展出現(xiàn)問題的地方，其制造和使用成本都高得驚人，且不一定能真正投入生產(chǎn)，當前半導體光刻技術之路或已走到盡頭。