ASML首席技術(shù)官M(fèi)artin van den Brink日前受訪時(shí)表示，目前公司正有序推行其路線圖，在EUV之后是High-NA EUV技術(shù)。ASML正在準(zhǔn)備向客戶交付首臺(tái)High-NA EUV光刻機(jī)，大概會(huì)在明年某個(gè)時(shí)間點(diǎn)完成。至于High-NA EUV技術(shù)之后的技術(shù)方案，Martin表示，ASML正在研究降低波長，但其懷疑Hyper-NA將是最后一個(gè)NA，可能是接下來半導(dǎo)體光刻技術(shù)發(fā)展出現(xiàn)問題的地方，其制造和使用成本都高得驚人，且不一定能真正投入生產(chǎn)，當(dāng)前半導(dǎo)體光刻技術(shù)之路或已走到盡頭。